当然，这是最简易的光刻步骤，在实际生产制造中，比这复杂了上百倍。

        当时间来到午四半的时候。

        而在ic制造中，光刻又是半导芯片生产程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本。

        一旁，刘元龙沉声“各位，你们难没有意识到吗？刚才我们用的，只是这台光刻机最底线的度！”

        “这是一个突破，了不起的突破，如果我们把这里发生的事，宣布去，足以震惊整个华夏，乃至是中央都要被惊动！”

        其中的难和关键，在于将电路图从掩模上转移至硅片上。

        所以，光刻的工艺平，往往直接决定了芯片的制程平和能平。

        一般的光刻步骤，有气相成底膜、旋转涂胶、烘、曝光、显影、膜。

        “不可思议啊！全华夏能60n芯片的企业，不超过三家，而且全是在18年半年才刚刚突破的技术，还是在实验室里！到量产的话，得到今年年底，甚至是明年年初去了。”

        “……”

        虽然60n芯片的量产，和45n芯片的量产，还有一定的差距。

        “是啊，而我们现在，却拥有了一台可以量产60n芯片的光刻机，如果作熟练了，速度提上去，再行交替光刻，一天至少可以造上数百片12寸的圆晶啊！”

        接着，就是行检测，主要是显影检测，让合规的硅片后续的蚀刻程。

        华夏在半导行业，被压了太多年了。

        安正国找来技术人员和材料，在苏扬的指导，这些专业生产芯片的员工，初步了解到这台光刻机的使用程。

        “没错，往上一个刻度的话，岂不是意味着……45n甚至32n的芯片也有可能了？”

        车间，一片惊喜和腾的景象。

        当然，这里面也有一些员工刚刚接新设备，作不顺手的因素。

        这话一，几名兴奋的家伙，立刻止住了话音，转而张了张嘴巴，睛立刻挣得大大的。

        所谓蚀刻，便是通过化学或理的方法，有选择地从硅片表面，除去不需要材料的过程。

        这和华夏古代的印刷术，实际上有一些相似之，但光刻技术却比印刷术难了千万倍。

        “来了，居然真的来了！”

        从开始光刻，到最后洗去残余的光刻胶，几个步骤，就足足花了三个多小时。

        “是啊，刚才用的还是最低的度！”

        “不对，我之前看过一篇学术报告，euv光刻技术的真正领域，是32n，不，是22n以的领域！”

        在硅片表面覆盖一层有度光的光刻胶，再用光线透过掩模照在硅片表面。

        “22n以，这……这也太疯狂了吧。”

        从上个世纪以来，就一直跟在西方国家的屁后面跑，说是向人家乞讨技术也不为过。

        但是，在工艺平上，也能证明华夏没比ter等落后太多了。

        “60n的电路图，居然真的被我们转移到了硅片上。”

        这是一个十分涨士气的突破。

        此后，再用特定的溶剂洗去被照或未被照的光刻胶，就实现了电路图从掩模到硅片的转移。

        被光线照到的光刻胶，会发生反应。

        光刻的原理，实际上非常简单。

技术。

        这一过程，目前只能通过光刻，才能最有效地实现。

        完成之后，就能通过特定溶剂，洗去硅片表面残余的光刻胶了。